恭喜了！关于中国造的“芯片”好消息接连而至？

在9月14号华为“断供”正式实施的时候，我国的弊端算是彻底曝光了出来。此外完全依靠进口的做法，或许才是现如今被"卡脖子"的核心原因，因此也是使得就在芯片领域使得在美企业独大，而就是这次的危机，也是有好处的，迫使我国大力进军芯片领域，半导体领域的独立自主的重要性还是比较重要的。


相比较于此前的架构，在自己设计的方案，被美干预之后，这方案也是彻底的行不通了！而华为之所以处于现在"绝境"的地步，就是因为无法生产芯片，但华为却是拥有研发芯片的实力是毋庸置疑的事情。对于生产芯片最为重要的就是光刻机，我国并没有先进的光刻机，对于现在低至5nm、7nm等工艺的芯片还无法达到生产地步。不过，就在"华为事件"显现出这类弊端之后，我们国家的不懈努力也终于是有所突破。

目前，网络上所流传的中国首家芯片大学还是比较火爆的！南京集成电路大学不仅仅是成立了，同时我们国家还推出了很多激励措施，其中最为厉害的就是最高十年免税的福利来激励国内半导体业务的研发成就。同时中ke院也是对外宣传，要结合全院之力攻克光刻机的关键技术难题，与此同时，华为方面也是积极的向外界招收半导体领域人才。

同时对于老牌的科技公司，在此时也是有着一定建树。中兴在第三届数字中国峰会上，就曾展示了关于5G+新基建的新成果。根据中兴相关负责人介绍，这次所展示的产品都是自主创新且完全国产化的产物。同时中兴副总裁还称，目前运用在5G无线基站和交换机等设备上的主控芯片，现已可以实现市场使用，而对于5nm工艺也处于试验阶段中。

生产较为先进的芯片例如：7nm工艺芯片，是需要使用到EUV光刻机的，但遗憾的是我们国家并没有。但就在这个条件之下，中芯国际却是能够通过老旧的光刻机生产出中国版的"7nm工艺"芯片，不过在性能上却是要逊色于市场同工艺芯片。FinFET N+1工艺性能上虽并不及台积电的工艺，但这也是一个足够骄傲的成就了！毕竟现在的中国在光刻机方面可以说成是"小白"一枚。