根据了解,在今年的12月初,三星电子社长李在镕和韩国总统尹锡悦前往荷兰,和ASML达成重要的商业协议。
为了开发使用EUV光刻机的半导体制造技术,三星和ASML愿意一起投资,1万亿韩元在韩国建设研究工厂。
三星电子总裁兼CEO、设备解决方案部负责人Kyung Kye-hyun博士表示,三星已经获得了High-NA EUV光刻机的优先供货权,利用此次机会使得三星在DRAM存储芯片和逻辑芯片生产中优化High-NA技术的使用。
ASML是一家总部位于荷兰的全球领先的半导体设备制造商。作为世界上主要的光刻机供应商之一ASML计划在2024年推出10台2nm芯片设备制造,型号的High-NA EUV光刻机,用于2n制程节点。